洗浄装置

案内

簡易的な洗浄から超精密洗浄まで、開発・試作向けの装置や高い生産性と洗浄性を兼ねた「バッチ式」や「枚葉式」等の全自動洗浄装置まで貴社のニーズにお応えいたします。 半導体・2次半導体の部材や部品・金属部品等、弊社の技術ノウハウとテクノロジーを生かした洗浄方法(超音波、ブラシ、高圧ジェット、薬液、UV等)や乾燥方法をご提案いたします。

※ 微細なラインやホールの中の汚れが落ちにくく、乾燥もしづらい!!
※ ウォーターマークが出てしまう!!
※ 薬液を使用した洗浄方法が分らない!! Etc

お困りの方は気軽にお問い合わせ下さい。

製品

超音波洗浄機

高超音波洗浄機とは?
精密部品・光学部品・貴金属部品・セラミックス・各種冶工具 etc に付着した加工粉、ほこり等を洗浄する装置になります。
各プロセスで幅広くご使用頂け、あらゆるニーズにお答え致します。
卓上型のサイズから大型のサイズの物までご提供させて頂きます。

ブラシスクラブ洗浄機

精密部品・セラミックス・ガラス基板・ウェーハ etcを受入れ後や各工程前後での粉塵の 除去、ラップ・ポリッシュ加工後の研磨材等をメカニカルに洗浄し表面に傷を付ける事無く洗浄を行い、ドライ(乾燥)までを行える洗浄装置になります。
またメンテナンス製にも優れブラシ交換がワンタッチにて可能な為、各プロセスで幅広くご使用を頂いております。

純水スピン洗浄乾燥機

Siウェーハや硝子基板の表裏面のほこり等を短時間で、洗浄から乾燥まで行える洗浄装置になります。作業プロセスとして専用回転テーブルにワークをセットし、回転させながら(MAX2000rpm)、ワークの表裏同時に純水で(5L/min)洗浄を行い、ドライ(乾燥)までをワンタッチで行えます。

仕様
洗浄対応
1.Si ウェーハ や ガラス基板等
2.処理工程
プロセス1 表裏リンス洗浄
回転数 Max500rpm
プロセス2 Spin乾燥
回転数 Max2000rpm
洗浄対応サイズ
大ワーク 丸 約Φ300mm
最大ワーク 角 約 210mm
TCL-300SPW
卓上型両面純水スピン洗浄乾燥機
TCL-300SPW TCL-300SPW

RCA洗浄機

RCA洗浄機とは?
半導体技術が進んでいる近代、CMP工程後の洗浄プロセスにおいての生産性・処理性能を考え開発致しました。
機械構成としてはDHF槽・AMP槽・HPM槽・DIW槽の4種類からなり、酸・アルカリといったケミカル要素を使用し、パーティクル・研磨材・ゴミ(サブミクロン)が効率よく除去できます。

機能水洗浄機

近代半導体企業間で自然環境の破壊、廃液処理問題が挙げられています。
そこでテクノライズではRCA洗浄装置に変わる機能水洗浄装置も製造致しております。
オゾン水・水素水等の酸化・還元機能を利用し、表面のゼータ電位を変換することで、微粒子への洗浄効率up!! 薬液を使用しない為廃液コストdown!!
自然環境を考えたEcologyな装置になります

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